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二硼化鈦靶材：高科技領域的"隱形冠軍"
二硼化鈦靶材憑借其超高硬度和優異的導電性能，成為現代工業領域不可或缺的關鍵材料。
這種陶瓷靶材的維氏硬度高達30GPa以上，僅次于金剛石和立方氮化硼，在極端環境下仍能保持穩定的物理特性。
在薄膜制備領域，二硼化鈦靶材展現出獨特優勢。
通過磁控濺射工藝，它能制備出兼具高硬度和良好導電性的功能薄膜。
這種薄膜的電阻率可低至10-6Ω·cm量級，硬度達到30GPa，既滿足了電子元件的導電需求，又能有效抵抗機械磨損。
半導體行業尤其青睞這種材料，因為它能顯著提升電子器件的可靠性和使用壽命。
二硼化鈦靶材的制備工藝頗具挑戰性。
粉末冶金是較常用的方法，需要精確控制燒結溫度和壓力參數。
熱壓燒結工藝能在1800-2000℃的高溫下，使材料達到95%以上的理論密度。
為獲得更優性能，常采用熱等靜壓技術，使材料致密度接近100%。
這些精密工藝確保了靶材內部結構的均勻性，為后續鍍膜質量提供了**。
在航空航天領域，二硼化鈦薄膜能有效保護精密部件免受高溫氧化和磨損；電子工業中，它被用作集成電路的導電保護層；機械制造業則利用其超硬特性延長工具壽命。
隨著5G技術和新能源產業的發展，這種材料的應用前景將更加廣闊。
二硼化鈦靶材代表了現代材料科學的重要突破，它的發展將持續推動多個工業領域的技術進步。
未來，通過工藝優化和復合改性，這種材料的性能和應用范圍還將得到進一步拓展。
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